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        | 書本編號 | :ISBN 9868185742 |  
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        | 書名 | | : | 半導體製程概論 絕版書9789868185746 | 
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        | 作者 |  |  
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        | 出版商 |  |  
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        | 書本訂價 | :720元 |  
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        | 書本賣價 | :480元    
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        | 書本描述 | : |  
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				    | 9789868185746 
 本書是施敏教授與梅凱瑞(Gary  S.May)教授所合著,美國Wiley公司於2004年出版之Fundamentals  of  Semiconductor  Fabrication之中譯本。本書特色包括:
 
 一、清楚解釋從晶體成長到形成積體元件與電路的製造過程中,所有主要步驟的理論與實作層面的重點。
 
 二、各章穿插附有題解的範例,方便學生自修或教師教學使用。
 
 三、各章皆列出學習目標與重要觀念的總結,並附習題為讀後作業。
 
 三、適合作為物理、化學、電機工程、化學工程和材料科學等系所之大四或碩一階段之教材。
 
 四、可配合學校實驗室進行相關實作教學。
 
 五、適合做為半導體產業界工程師與科學家的參考資料。
 
 
 內容依一般製作程序規劃,包括矽氧化、微影與蝕刻技術、擴散與離子植入、廣汎、概括的主體,並以專篇串接各種單一製程步驟,說明關鍵製程技術、積體元件和微機電系統的製作流程。
 
 
 另,介紹高層面積體電路製造的問題,包括電性測試、構裝、製程管制和良率,以及半導體產業未來之發展與挑戰。
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